記者呂承哲／綜合報導
隨著美日荷在今年達成半導體協議，荷蘭政府跟上今年4月日本政府管制半導體設備與材料出口至大陸的措施，正式在6月30日宣布最新半導體設備限制措施，要求業者供應深紫外光(DUV)微影設備必須經過申請許可，雖然沒有明指，但顯然未來艾司摩爾(ASML)要持續供貨至大陸市場將受到限制。然而，艾司摩爾卻有一款型號，其實沒有受到管制，雖然無法發展先進製程，但至少在目前需要的成熟製程工藝，仍可勉強供應。
荷蘭的半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）。（圖／中天新聞）
荷蘭外貿部長Liesje Schreinemacher表示，荷蘭政府採取半導體設備管制措施，主要是出於國家安全考量，受到影響的企業應該知道自己的立場是好事，因為這樣才能及時調整、適應新規定，新規9月1日生效。Liesje Schreinemacher預估，每年將有約 20 份許可證申請，並強調新規僅非常有限影響特定公司及產品，新規定預計9月1日實施。
在措施宣布後，艾司摩爾就宣布TWINSCAN NXT:2000i以及後續機型將受到影響。至於艾司摩爾官網訊息指出，目前該公司有3款主流的浸潤式DUV曝光機，型號分別為：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。
根據艾司摩爾的介紹，TWINSCAN NXT:1980Di型號的機台，分辨率約莫達到38奈米。若再採用多重圖形（Multiple patterning）的曝光方式，有機會讓製程工藝來到7奈米，浸潤式微影之父、台積電前研發副總林本堅也在過去採訪證實過，甚至可以實現5奈米製程生產，不過，同時間良率與成本都會提高不少，所以基本上不太會有廠商這樣生產先進製程，但至少在成熟製程的半導體設備取得上，大陸半導體產業不是完全被掐住脖子、無法發展。
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