路透驚爆：陸在深圳建秘密實驗室　成功打造出自製EUV光刻機

《路透社》披露，中國大陸科學家已在廣東省深圳市一處高度戒備的實驗室中，成功打造出一台極紫外光刻機（EUV）原型機，正是美國多年來試圖阻止中方取得的關鍵半導體製造技術，並於2025年初完成，目前正進入測試階段。

報導指出，EUV光刻機被視為全球最關鍵、也最受管制的半導體設備，能在矽晶圓上蝕刻出比髮絲細數千倍的電路，是製造先進人工智慧晶片、智慧型手機處理器及軍事級晶片的核心工具。

知情人士透露，這台原型機由一支曾任職於荷蘭半導體設備大廠艾斯摩爾（ASML）的工程師團隊打造，部分人員甚至以化名工作。知情人士說，大陸的目標是在2028年前，利用該原型機生產出可用的先進晶片，但評估認為，2030年才是較可能的時程。

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報導表示，目前最大的技術瓶頸在於高精度光學系統，艾斯摩爾的EUV設備長期仰賴德國蔡司（Zeiss）提供的反射鏡，而這類精密光學零件至今仍由西方廠商主導。

多名消息人士形容，這項EUV計畫堪稱「中國版曼哈頓計畫」，屬於國家半導體戰略的一環，由中共中央科學技術委員會主導執行，其中華為扮演關鍵角色，協調數千名工程師，涵蓋晶片設計、設備研發、製造與最終產品應用。