記者呂承哲／綜合報導
自川普政府時代發動美中貿易戰以來，拉幫結派要求盟國一同禁止對大陸市場出口先進製程晶片、半導體設備與材料供應，這導致大陸半導體產業面臨發展困境，甚至在今年美日荷達成半導體協議，荷蘭政府正式在6月30日宣布最新半導體設備限制措施，要求業者供應深紫外光(DUV)微影設備必須經過申請許可，雖然沒有明指，但顯然未來艾司摩爾(ASML)要持續供貨至大陸市場將受到限制，預估9月1日生效。不過，也有外媒認為，比起這種早就封殺的行動再度緊縮，日本半導體設備與材料供應佔有全球重要地位，對大陸出口進行管制，恐怕更讓大陸半導體產業感到困擾。
荷蘭的半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）。（圖／中天新聞）
荷蘭外貿部長Liesje Schreinemacher表示，荷蘭政府採取半導體設備管制措施，主要是出於國家安全考量，受到影響的企業應該知道自己的立場是好事，因為這樣才能及時調整、適應新規定，新規9月1日生效。Liesje Schreinemacher預估，每年將有約 20 份許可證申請，並強調新規僅非常有限影響特定公司及產品。
艾司摩爾為全球獨家供應極紫外光(EUV)曝光機的半導體設備商，同時也是DUV曝光機的主要供應商，EUV曝光機早在先前就已經被喊停出貨給大陸業者，如今新規推出，艾司摩爾將有3種型號設備受到影響。艾司摩爾還重申今年3月財報指引，表示第二先進的DUV曝光機，需要有許可證才能出口，預估新規不對會財測產生重大影響。
荷蘭政府的新規定也限制了單原子層沉積（ALD）技術設備出口，ALD 設備廠 ASM International 表示，新規預估對財測不會有重大影響。然而，這些新限制，對於日前日本政府宣布，頒布23項涉及半導體生產設備與材料的出口管制措施，預計7月生效，由於日本的半導體材料供應在全球供應鏈具有重要地位，預計對大陸半導體產業有更嚴重衝擊。
日本政府計畫7月起管制23種關鍵晶片製造設備出口，加入美國、荷蘭禁止先進晶片/設備出口至中國的行列。中國業內擔憂，日本禁令涵蓋範圍過廣、恐殃及低階晶片，帶來的衝擊比美國禁令嚴重。
據英國《金融時報》日前報導，檢視過日本晶片禁令的大陸半導體企業高層擔憂，這比過去美國封殺行動還要讓人困擾。美國政府去年10月宣布14奈米以下半導體設備限制出貨至大陸，但是日本這項行動，連45奈米成熟製程都涵蓋在內，包括Nikon浸潤式微影設備(immersion lithography)，主要是部分技術涵蓋了先進製程晶片生產。
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